Lembar Tantalum
-
Tantalum Sputtering Target – Disc
Target sputtering Tantalum utamane ditrapake ing industri semikonduktor lan industri lapisan optik.We Pabrik macem-macem specifications tantalum sputtering target marang panyuwunan pelanggan saka industri semikonduktor lan industri optik liwat vakum EB tungku smelting metode.Kanthi waspada karo proses rolling sing unik, liwat perawatan rumit lan suhu lan wektu annealing sing akurat, kita ngasilake macem-macem dimensi target sputtering tantalum kayata target disk, target persegi panjang lan target rotary.Menapa malih, kita njamin kemurnian tantalum antarane 99,95% kanggo 99,99% utawa luwih;ukuran gandum ngisor 100um, flatness ngisor 0.2mm lan lumahing
-
Lembar Tantalum (Ta)99,95%-99,99%
Lembar Tantalum (Ta) digawe saka ingot tantalum. Kita minangka pemasok global Lembar Tantalum (Ta) lan bisa nyedhiyakake produk tantalum sing disesuaikan.Lembar Tantalum (Ta) diprodhuksi liwat Proses Cold-Working, liwat forging, rolling, swaging, lan drawing kanggo entuk ukuran sing dikarepake.
